Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления Caroline D12A
Вакуумно-технологическая установка «CarolineD12А» предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм.) подложки Ø до 100 мм.
Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители, в которых закреплены подложки. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется с низу вверх.
Установка может быть укомплектована любым набором технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1-го до 5-ти шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции).
Установка обеспечивает:
· очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
· нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
· стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
· отпыливание мишени любого технологического устройства для напыления на управляемую заслонку;
· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;
· контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины (дополнительная опция);
· размещение изделий на легкосъемных носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки;
· для удобства обслуживания внутрикамерных устройств и смены носителей крышка установки «Caroline D12A» снабжена механизмом подъема и отвода в сторону;
На установках этого типа были реализованы следующие технологии:
· напыление любых резистивных плёнок, в частности РС — 3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/… и более
· напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/… и ТКС менее 5×10−5
· напыление толстых (до 15 мкм. и более) слоев металла
· напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле
· напыление двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени
· напыление пленок титана и тантала, их нитридов или оксидов
| Количество подложек обрабатываемых за 1 цикл | 12 шт. Ø100 мм. 24 шт. 60×48 (без переворота) |
| Предусмотрен визуальный контроль в позициях термических испарителей | |
| Автономное управление заслонками на всех позициях напыления | |
| Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу, л/час | 0 ÷ 9 |
| Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт. | до 3 |
| Количество устройств очистки изделий, шт. | 1 |
| Возможна установка термических испарителей, шт. | до 3 |
| Возможна установка магнетронов, шт. | до 5 |
| Тип магнетронов для напыления пленок | Импульсный среднечастотный |
| Рабочий ток магнетронов регулируемый, А | до 7 |
| Рабочее напряжение магнетронов, В | до 650 |
| Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм. | Ø100×4÷12 |
| Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па | 0,07÷0,3 |
| Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц, мощность генератора смещения до 1 КВА | опция |
| Диапазон контроля сопротивления свидетеля, кОм | 0,2÷20 |
| Погрешность измерения сопротивления, % | ±1 |
| Предусмотрен вариант установки кварцевого измерителя толщины в любой позиции напыления | опция |
| Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (max 300°С) | 50÷250 |
| Нестабильность температуры подложек, % | ±5 |
| Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па | 8x10−4 |
| Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. | 120 |
| Габаритные размеры агрегата технологического «Caroline D12A» (ширина x глубина x высота) с открытой крышкой, мм. | 1315×1430×2100 |
| Масса со стойкой питания и управления, кг. | до 1850 |