Назначение:Вакуумно-технологическая установка «
CarolineD12А» предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм.) подложки Ø до 100 мм.
Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители, в которых закреплены подложки. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется с низу вверх.
Установка может быть укомплектована любым набором технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1-го до 5-ти шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции).
Установка обеспечивает:· очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
· нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
· стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
· отпыливание мишени любого технологического устройства для напыления на управляемую заслонку;
· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;
· контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины (дополнительная опция);
· размещение изделий на легкосъемных носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки;
· для удобства обслуживания внутрикамерных устройств и смены носителей крышка установки «Caroline D12A» снабжена механизмом подъема и отвода в сторону;
На установках этого типа были реализованы следующие технологии:· напыление любых резистивных плёнок, в частности РС — 3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/… и более
· напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/… и ТКС менее 5×10−5
· напыление толстых (до 15 мкм. и более) слоев металла
· напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле
· напыление двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени
· напыление пленок титана и тантала, их нитридов или оксидов
Количество подложек обрабатываемых за 1 цикл
| 12 шт. Ø100 мм.
24 шт. 60×48 (без переворота)
|
Предусмотрен визуальный контроль в позициях термических испарителей
| |
Автономное управление заслонками на всех позициях напыления
| |
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу, л/час
| 0 ÷ 9
|
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.
| до 3
|
Количество устройств очистки изделий, шт.
| 1
|
Возможна установка термических испарителей, шт.
| до 3
|
Возможна установка магнетронов, шт.
| до 5
|
Тип магнетронов для напыления пленок
| Импульсный среднечастотный
|
Рабочий ток магнетронов регулируемый, А
| до 7
|
Рабочее напряжение магнетронов, В
| до 650
|
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм.
| Ø100×4÷12
|
Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па
| 0,07÷0,3
|
Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц, мощность генератора смещения до 1 КВА
| опция
|
Диапазон контроля сопротивления свидетеля, кОм
| 0,2÷20
|
Погрешность измерения сопротивления, %
| ±1
|
Предусмотрен вариант установки кварцевого измерителя толщины в любой позиции напыления
| опция
|
Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (max 300°С)
| 50÷250
|
Нестабильность температуры подложек, %
| ±5
|
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па
| 8x10−4
|
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин.
| 120
|
Габаритные размеры агрегата технологического «Caroline D12A» (ширина x глубина x высота) с открытой крышкой, мм.
| 1315×1430×2100
|
Масса со стойкой питания и управления, кг.
| до 1850
|